ຈັດການການປິ່ນປົວພື້ນຜິວໄດ້ຢ່າງງ່າຍດາຍສໍາລັບອົງປະກອບທີ່ລະອຽດອ່ອນ
- plasma argon ທີ່ສາມາດຕິດຕໍ່ໄດ້
- ບໍ່ເກີດປະກາຍໄຟ, ອາກ, ຂີ້ຝຸ່ນ, ລັງສີ UV, ຫຼືຄວາມຮ້ອນຫຼາຍເກີນໄປ
- ບໍ່ມີຄວາມສ່ຽງຕໍ່ການໄຫຼ electrostatic (ESD) ສໍາລັບອົງປະກອບເອເລັກໂຕຣນິກທີ່ລະອຽດອ່ອນ (ເຊັ່ນ: wafers, ນໍາພາ, ພາກສ່ວນຫຸ້ມຫໍ່ semiconductor)
| ຕົວກໍານົດການພື້ນຖານ | MYS Plasma Surface Treatment Platform |
| ຄວາມຕ້ອງການພະລັງງານ | 220 V, 2 kW, 10 A, 60 Hz |
| ຄວາມຕ້ອງການອາຍແກັສ | 90 psi (6 bar) |
| ຂະໜາດ (ກວ້າງ x ສູງ) | 1,200 x 770 x 1,400 ມມ |
| ນ້ຳໜັກ | 650 ກິໂລ |
| ການຢັ້ງຢືນ | CE |
| ຄວາມຖືກຕ້ອງຂອງການຈັດຕໍາແຫນ່ງ | XY: ±30 µm @ 3σ ; Z: ±10 µm @ 3σ |
| X, Y, Z Axis Repeatability | XY: ±15 µm @ 3σ Z: ±5 µm @ 3σ |
| ຄວາມໄວສູງສຸດ | 1,000 mm/s (X, Y) |
| ການເລັ່ງ | 1.0 g |
| ຄວາມລະອຽດກ້ອງຖ່າຍຮູບ | 640 x 480 px (0.3 MP) |
| ລະບົບຂັບ | AC servo |
| ປະເພດລໍາລຽງ | ສາຍແອວ |
| ຄວາມສາມາດໃນການໂຫຼດລໍາລຽງ | 3 ກິໂລ |
| ຄວາມກວ້າງຂອງຜະລິດຕະພັນຕ່ໍາສຸດ | 50 ມມ |
| ຄວາມກວ້າງຂອງຜະລິດຕະພັນສູງສຸດ | 475 ມມ |
| ຄວາມຍາວຂອງຜະລິດຕະພັນຕ່ໍາສຸດ | 50 ມມ |
| ຄວາມຍາວສູງສຸດຂອງຜະລິດຕະພັນ | 350 ມມ |
| ລະບົບປະຕິບັດການຊອບແວ | Windows 7 |
| ລະດັບຄວາມຫນາຂອງຜະລິດຕະພັນ | 0.5–6 ມມ |
| ອະນຸສັນຍາການສື່ສານ | SMEMA |
| ພື້ນທີ່ປິ່ນປົວ plasma (D x W) | 475 x 350 ມມ |
|
|
|
| ຂໍ້ມູນຈໍາເພາະພື້ນຖານ | ຄວາມຕ້ອງການລະບົບ Plasma |
| ພະລັງງານ RF | 600W ທີ່ 27.12 MHz |
| ອາຍແກັສ Plasma ປະຖົມ | ອາກອນ |
| ອາຍແກັສຂະບວນການ | O2, N2, ຫຼື H2 (ອື່ນໆແມ່ນຂຶ້ນກັບການທົດສອບ) |
| ລະດັບຄວາມດັນຂອງການສະຫນອງອາຍແກັສ | 30–100 psig (0.2–0.7 MPa) |
ທີ່ຢູ່
ຊັ້ນ 5, ອາຄານ 2, ເລກທີ 182, ຖະໜົນຊາງອານຊີ, ເມືອງສາງອານ, ດົງກວາງ, ແຂວງກວາງຕຸ້ງ, ປະເທດຈີນ.
ອີເມລ
